Name:MS-PVD - (MS-PVD)
Category:Surface coating and modification
 
Our setup:
-Camera di deposizione cilindrica da 90l, 525x410 mm (Dxh)
-Generatore in radiofrequenza PR 600 RF Hüttinger ad oscillatore al quarzo ( 13.56 MHz ±0.05% ), erogante 600W di potenza
-Generatore DC PFG 2500 DC Hüttinger erogante 2.5 kW di potenza
-Mass-flow control 1179A MKS completo di due flussimetri (Fondoscala: 10 a 30000 scc, Accuratezza: ± % F.S., Ripetibilità: ±0.2 F.S., Risoluzione: 0.1% F.S., Massima pressione in ingresso: 150 psig)
- Sistema di movimentazione porta substrati con rotazione su asse verticale regolabile
-Pompa rotativa Pfeiffer doppio-stadio con velocità di pompaggio di 20 m3/h @ 50Hz e pressione minima raggiungibile di 5•10-3 mbar
-Pompa turbo molecolare Pfeiffer con pressione minima raggiabile di 5•10-10 mbar
L'attuale sistema da vuoto permette di raggiungere un vuoto in camera di circa 10-6 mbar
General Description: 
This is a reactive magnetron sputtering based on two balanced magnetron cathode powered by DC generator and a RF bias system for the substrate.
This equipment allows to obtain a multilayer thin coating in reactive atmosphere.
Features:
-Cylindrical deposition chamber 90l, 525x410 mm (Dxh)
-RF generator PR 600 RF Hüttinger with quartz oscillator ( 13.56 MHz ±0.05% ), providing a power of 600W
-DC generator PFG 2500 DC Hüttinger providing 2.5 kW of power
-Mass-flow control 1179A MKS provided of two flow-meter (Full scale: 10 to 30000 sccm, Accuracy: ± % F.S., Repeatibility: ±0.2 F.S., Resolution: 0.1% F.S., Maximum Inlet Pressure: 150 psig)
-Roundabout substrate-carry speed-control machine
- Two-stage rotary vane pump Pfeiffer with pumping speed of 20 m3/h @ 50Hz and minimal value of pressure reachable of 5•10-3 mbar
- Turbomolecular drag pump Pfieffer with minimal value of pressure reachable of 5•10-10 mbar
Standards and procedures:  
 
 
Installation year:2011

Where this equipment is useful

Useful forCategory of
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application		Other fields of
application		Keywords
Rivestimenti superficiali a film sottile mediante tecniche di deposizione PVDTecnologia dei materiali, energetica e fonti energetiche non rinnovabili, nanotecnologia e nano scienza, biotecnologia industrialeRivestimenti funzionali nel settore energetico (fotovoltaico, solare termico, cella a combustibile e rivestimenti catalitici); Rivestimenti biocompatibili per applicazioni biomediche (innesti ortopedici e odontoiatrici)Rivestimenti antiusura per applicazioni meccaniche; Rivestimenti decorativi (gioielleria, alta moda, automotive).Rivestimenti superficiali, PVD

Services

CategoryAimMethodDescriptionStandards
Surface coating and modificationmodifica delle proprietà di superficie mediante apporto di materialedeposizione fisica da fase vapore mediante magnetron sputteringrivestimento in metallo (non prezioso) su metalli o dielettrici in atmosfera inerte o reattiva per spessori fino ad un micron e superfici fino a 10 cm2, dimensione maggiore massimo 10 cm 
Surface coating and modificationmodifica delle proprietà di superficie mediante apporto di materialedeposizione fisica da fase vapore mediante magnetron sputteringrivestimento in metallo prezioso su metalli o dielettrici in atmosfera inerte per spessori fino ad un micron e superfici fino a 10 cm2, dimensione maggiore massimo 10 cm 
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